لیتوگرافی نوری یا طرح نگاری نوری (به انگلیسی: Photolithography)
در این فرایند پس از نشاندن یک لایه پلیمری حساس به نور (پلیمر واسط یا پلیمر مقاوم) روی سطح زیرلایه، پرتو نور همگن از یک ماسک عبور کرده و طرحی روی پلیمر ایجاد می کند. در فرایند طرح نگاری نوری پس از ایجاد طرح روی پلیمر واسط، نواحی نور دیده، با مقاومت در برابر خوردگی، واسطه انتقال طرح به لایه زیرین می شوند؛ این فرایند بسیار شبیه به مهرسازی با نور فرابنفش است؛ و در صنعت ساخت ادوات الکترونیک نقش مهمی بازی می کند.
از زمان اختراع طرح نگاری نوری توسط نایپسه تا کنون منابع انرژی متفاوتی برای این کار استفاده شده، که منجر به ایجاد خانواده های مختلف طرح نگاری شده است: فوتون فرابنفش، اشعه ایکس، الکترون. علت اصلی استفاده از طول موج های کوتاه، رسیدن به ظرافت بیشتر در ساخت ادوات الکترونیک است.
در حال حاضر فرایند اصلی ساخت ادوات الکترونیک بر پایهٔ طرح نگاری نوری فرا بنفش است، که با طیف طول موج های بین ۳۰۰ تا ۴۵۰ نانومتر سر و کار دارد. در این مقاله در مورد این نوع خاص طرح نگاری بحث می کنیم.
در این فرایند پس از نشاندن یک لایه پلیمری حساس به نور (پلیمر واسط یا پلیمر مقاوم) روی سطح زیرلایه، پرتو نور همگن از یک ماسک عبور کرده و طرحی روی پلیمر ایجاد می کند. در فرایند طرح نگاری نوری پس از ایجاد طرح روی پلیمر واسط، نواحی نور دیده، با مقاومت در برابر خوردگی، واسطه انتقال طرح به لایه زیرین می شوند؛ این فرایند بسیار شبیه به مهرسازی با نور فرابنفش است؛ و در صنعت ساخت ادوات الکترونیک نقش مهمی بازی می کند.
از زمان اختراع طرح نگاری نوری توسط نایپسه تا کنون منابع انرژی متفاوتی برای این کار استفاده شده، که منجر به ایجاد خانواده های مختلف طرح نگاری شده است: فوتون فرابنفش، اشعه ایکس، الکترون. علت اصلی استفاده از طول موج های کوتاه، رسیدن به ظرافت بیشتر در ساخت ادوات الکترونیک است.
در حال حاضر فرایند اصلی ساخت ادوات الکترونیک بر پایهٔ طرح نگاری نوری فرا بنفش است، که با طیف طول موج های بین ۳۰۰ تا ۴۵۰ نانومتر سر و کار دارد. در این مقاله در مورد این نوع خاص طرح نگاری بحث می کنیم.
wiki: طرح نگار نوری